Основной фокус инвестиций сместился на устранение критических технологических барьеров — создание собственного литографического оборудования и ПО для проектирования чипов. В связи с этим, он направляет $47,5 млрд через государственный Big Fund III на разработку ключевых технологий для производства микросхем.

Сегодня монополистом в этой сфере является нидерландская компания ASML, чье оборудование необходимо для производства чипов по технологиям 5 нм и 3 нм. Поставки передовых машин ASML в Китай запрещены в рамках экспортных ограничений, что вынуждает китайских производителей искать альтернативные решения.

Существенную часть финансирования получит Shanghai Micro Electronics Equipment — национальный производитель литографического оборудования.

На данный момент компания способна производить системы только для 90-нанометрового техпроцесса, что значительно отстает от современных стандартов. Дальнейшее развитие тормозит отсутствие доступа к ключевым компонентам, в частности, к мощным лазерам и высокоточным зеркалам, которые производит немецкая Zeiss.

Big Fund III также инвестирует в разработку альтернативных технологий литографии. Среди них — создание собственной EUV-технологии «с нуля», совершенствование метода самовыравнивающегося четырёхкратного литографического формирования рисунка (SAQP) для достижения 5-нанометрового производства и развитие наноимпринтной литографии (NIL).

Второе стратегическое направление инвестиций — разработка программного обеспечения для проектирования микросхем. В настоящее время данный сегмент контролируют три западные компании: Synopsys, Cadence и Siemens.

Средства фонда будут направлены в местные компании Empyrean Technology и Primarius Technologies, однако технологический разрыв в этой области остается значительным.