Японская компания Rapidus Corp. создала прототип полупроводникового чипа по 2-нанометровому технологическому процессу, что стало значимым этапом в стратегии восстановления технологического лидерства страны. Об этом заявил президент компании Ацуёси Коикэ.

Компания, получившая масштабное государственное финансирование в размере 11,6 млрд долларов, успешно напечатала схемы на пластинах на прошлой неделе. Коикэ не раскрыл количество полученных функциональных чипов, но подчеркнул рекордную скорость освоения технологии EUV-литографии: «Я не думаю, что кому-то еще удалось добиться успеха в EUV-литографии всего за 3 месяца. Чтобы достичь этого уровня, мы не спали».

Rapidus начала использовать оборудование для экстремальной ультрафиолетовой литографии от нидерландской ASML Holding NV в апреле текущего года.

Согласно заявленным планам, компания намерена предоставить услуги контрактного производства клиентам уже к марту следующего года, а запуск массового производства передовых полупроводников запланирован на 2027 год.

Несмотря на достигнутый прогресс, японский производитель значительно отстает от графика мирового лидера отрасли Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), который готовится начать массовое производство по 2-нм технологическому процессу уже в конце 2025 года.

Проект Rapidus является ключевым элементом государственной стратегии Японии по созданию собственного производства передовых микросхем. Инициатива также получила финансовую поддержку от крупнейших японских корпораций, включая Toyota Motor Corp. и Sony Group Corp.

Несмотря на оптимистичные заявления руководства Rapidus, проект встречает скептическую оценку со стороны экспертов отрасли. Критики указывают на отсутствие успешного опыта предыдущих государственных инициатив по восстановлению лидерства Японии в производстве дисплеев, солнечных батарей и микросхем памяти.