Китайская компания SMIC, вопреки всем прогнозам и санкционным ограничениям, сумела наладить производство 5-нанометровых чипов. Без использования экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), к которой у Китая нет доступа из-за западных санкций.

Инженеры SMIC совершили настоящий технологический прорыв, применив старые установки глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) в сочетании со сложнейшим процессом самосовмещенного четырехкратного шаблонирования (SAQP). Хотя эта методика значительно медленнее, дороже и подвержена ошибкам, она оказалась эффективной.

Доказательством успеха SMIC уже стали реальные устройства на рынке, в частности, процессор Kirin 9000S, который используется в смартфонах Huawei Mate 60.

Это первое осязаемое свидетельство того, что китайская компания действительно преодолела технологический барьер, который многие специалисты считали непреодолимым без доступа к оборудованию голландской компании ASML — единственного в мире производителя EUV-литографических машин.

Годами в индустрии господствовало мнение, что без EUV-литографии невозможно создавать чипы с технологическим процессом меньше 7 нм. Китайские инженеры опровергли этот постулат, выжав максимум из устаревших технологий.

По непроверенной информации, SMIC уже проводит эксперименты, чтобы достичь еще более впечатляющего порога в 3 нм, что еще недавно казалось абсолютно фантастическим для компании, находящейся под санкциями.

Этот прорыв SMIC может полностью изменить глобальный технологический ландшафт. Если Китай действительно сможет самостоятельно производить передовые чипы в промышленных масштабах, это не только подорвет эффективность западных санкций, но и нарушит сложившуюся монополию на высокие технологии в сфере производства полупроводников.